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セメス カンパニー，リミテッド
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第948位 29件
（
2020年：第2497位 8件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第25492位 0件
（
2020年：第24204位 0件）
（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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セメス カンパニー，リミテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-197553 | 基板処理装置、リフトピン高さ偏差の測定方法、及びコンピュータ読出し可能な処理プログラムを記録した記録媒体 | 2021年12月27日 | |
| 特開 2021-182624 | 基板処理装置及びそのフェライトコア温度制御方法 | 2021年11月25日 | |
| 特開 2021-174993 | 基板処理装置及び液供給方法 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-132206 | 部品洗浄方法及び装置 | 2021年 9月 9日 | |
| 特開 2021-111786 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2021年 8月 2日 | |
| 特開 2021-73706 | 基板処理装置 | 2021年 5月13日 | |
| 特開 2021-72446 | 薬液供給装置、薬液のパーティクル除去方法、ノズルユニット、及び基板処理装置 | 2021年 5月 6日 | |
| 特開 2021-72448 | 基板処理装置 | 2021年 5月 6日 | |
| 特開 2021-72449 | 基板処理装置及び方法 | 2021年 5月 6日 | |
| 特開 2021-72450 | 支持ユニット、これを含む基板処理装置、及びこれを利用する基板処理方法 | 2021年 5月 6日 | |
| 特開 2021-68893 | 基板処理装置及び方法 | 2021年 4月30日 | |
| 特開 2021-61399 | 基板処理装置及び方法 | 2021年 4月15日 | |
| 特開 2021-61400 | 基板処理設備及び基板処理方法 | 2021年 4月15日 | |
| 特開 2021-57590 | 基板処理装置及び処理液供給方法 | 2021年 4月 8日 | |
| 特開 2021-49519 | 基板処理装置、基板処理方法、及びノズルユニット | 2021年 4月 1日 |
29 件中 1-15 件を表示
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2021-197553 2021-182624 2021-174993 2021-132206 2021-111786 2021-73706 2021-72446 2021-72448 2021-72449 2021-72450 2021-68893 2021-61399 2021-61400 2021-57590 2021-49519
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