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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第117位 374件
(2015年:第145位 329件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第147位 240件
(2015年:第163位 189件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2016-160444 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2016年 9月 5日 | |
特開 2016-162349 | 印刷データ生成装置、印刷データ生成方法、および印刷データ生成プログラム | 2016年 9月 5日 | |
特開 2016-162774 | ヒータ異常検出装置、処理液供給装置、基板処理システム、およびヒータ異常検出方法 | 2016年 9月 5日 | |
特開 2016-162799 | 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 | 2016年 9月 5日 | |
特開 2016-162847 | 基板処理方法および基板処理装置ならびに流体ノズル | 2016年 9月 5日 | |
特開 2016-162865 | 基板処理装置および基板処理装置の制御方法 | 2016年 9月 5日 | |
特開 2016-162880 | 基板熱処理装置および基板温度調整方法 | 2016年 9月 5日 | |
特開 2016-162922 | 基板処理装置 | 2016年 9月 5日 | |
特開 2016-162923 | 基板処理装置 | 2016年 9月 5日 | |
特開 2016-156648 | パターン検査装置およびパターン検査方法 | 2016年 9月 1日 | |
特開 2016-156923 | 光学デバイスおよび露光装置 | 2016年 9月 1日 | |
特開 2016-157709 | 蒸気供給装置、蒸気乾燥装置、蒸気供給方法および蒸気乾燥方法 | 2016年 9月 1日 | |
特開 2016-157811 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2016年 9月 1日 | |
特開 2016-157834 | 基板処理液供給方法および装置 | 2016年 9月 1日 | |
特開 2016-157851 | 基板処理装置 | 2016年 9月 1日 |
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2016-160444 2016-162349 2016-162774 2016-162799 2016-162847 2016-162865 2016-162880 2016-162922 2016-162923 2016-156648 2016-156923 2016-157709 2016-157811 2016-157834 2016-157851
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2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
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2月25日(火) -
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2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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