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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第145位 368件 (2016年:第117位 374件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第139位 238件 (2016年:第147位 240件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2017-172878 | 基材処理装置 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-172917 | 基材処理装置および基材処理方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-173098 | 画像処理装置および画像処理方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-173147 | 半導体検査装置及び半導体検査方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-173190 | オーバーレイ計測装置およびオーバーレイ計測方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-174855 | 基板保持装置および基板処理装置 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-174913 | 処理液冷却装置および基板処理装置 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-174934 | 基板処理装置、光照射装置および基板処理方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-175007 | 処理液冷却装置および基板処理装置 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-175041 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-175049 | 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-175058 | 基板処理方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-175060 | 基板処理装置および基板処理装置の回転位置決め方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-175062 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-175063 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2017年 9月28日 |
371 件中 61-75 件を表示
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2017-172878 2017-172917 2017-173098 2017-173147 2017-173190 2017-174855 2017-174913 2017-174934 2017-175007 2017-175041 2017-175049 2017-175058 2017-175060 2017-175062 2017-175063
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
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12月1日(日) -
12月1日(日) -
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