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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7198019 | 基材処理装置および検出方法 | 2022年12月28日 | |
特許 7198020 | 基材処理装置および検出方法 | 2022年12月28日 | |
特許 7197316 | 画像処理方法、コンピュータプログラムおよび記録媒体 | 2022年12月27日 | |
特許 7197436 | 膜電極接合体の製造装置、および、その製造方法 | 2022年12月27日 | |
特許 7197525 | ノズル清掃装置、塗布装置、ノズル清掃方法、および、スクレーパー | 2022年12月27日 | |
特許 7195841 | 基板処理装置 | 2022年12月26日 | |
特許 7195084 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2022年12月23日 | |
特許 7194623 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2022年12月22日 | |
特許 7194645 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2022年12月22日 | |
特許 7193357 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2022年12月20日 | |
特許 7191504 | 熱処理装置 | 2022年12月19日 | |
特許 7191591 | 基板処理方法 | 2022年12月19日 | |
特許 7191748 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2022年12月19日 | |
特許 7191909 | 基板処理装置および断熱部材 | 2022年12月19日 | |
特許 7190900 | 基板処理装置、キャリア搬送方法およびキャリアバッファ装置 | 2022年12月16日 |
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7198019 7198020 7197316 7197436 7197525 7195841 7195084 7194623 7194645 7193357 7191504 7191591 7191748 7191909 7190900
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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