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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第63位 377件
(
2025年:第60位 443件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第51位 365件
(
2025年:第68位 348件)
(ランキング更新日:2026年10月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7869720 | 基板処理装置 | 2026年 6月 3日 | |
| 特許 7869093 | 描画位置情報取得方法および描画方法 | 2026年 6月 2日 | |
| 特許 7869281 | 基板処理装置および基板搬送方法 | 2026年 6月 2日 | |
| 特許 7866910 | 印刷装置 | 2026年 5月28日 | |
| 特許 7866911 | ヘッド交換方法、インクジェット印刷装置、およびヘッド交換支援プログラム | 2026年 5月28日 | |
| 特許 7866922 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2026年 5月28日 | |
| 特許 7866931 | 作業支援方法および作業支援システム | 2026年 5月28日 | |
| 特許 7866406 | 基板処理装置 | 2026年 5月27日 | |
| 特許 7866409 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2026年 5月27日 | |
| 特許 7866467 | 印刷装置およびインク供給方法 | 2026年 5月27日 | |
| 特許 7866470 | 基板処理装置 | 2026年 5月27日 | |
| 特許 7864605 | 露光装置 | 2026年 5月25日 | |
| 特許 7864774 | 基板処理方法 | 2026年 5月25日 | |
| 特許 7863463 | 自己組織化単分子膜除去液、並びにそれを用いた基板処理方法及び基板処理装置 | 2026年 5月21日 | |
| 特許 7863499 | 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 | 2026年 5月21日 |
365 件中 181-195 件を表示
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7869720 7869093 7869281 7866910 7866911 7866922 7866931 7866406 7866409 7866467 7866470 7864605 7864774 7863463 7863499
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