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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第63位 379件
(
2025年:第60位 443件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第52位 369件
(
2025年:第68位 348件)
(ランキング更新日:2026年10月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7864605 | 露光装置 | 2026年 5月25日 | |
| 特許 7864774 | 基板処理方法 | 2026年 5月25日 | |
| 特許 7863463 | 自己組織化単分子膜除去液、並びにそれを用いた基板処理方法及び基板処理装置 | 2026年 5月21日 | |
| 特許 7863499 | 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 | 2026年 5月21日 | |
| 特許 7863643 | 検査装置及びそれを備えたインクジェット印刷装置 | 2026年 5月21日 | |
| 特許 7862989 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2026年 5月20日 | |
| 特許 7863021 | 印刷装置およびインク攪拌方法 | 2026年 5月20日 | |
| 特許 7863137 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記録媒体 | 2026年 5月20日 | |
| 特許 7863145 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2026年 5月20日 | |
| 特許 7862256 | 基板洗浄装置、および、基板洗浄方法 | 2026年 5月19日 | |
| 特許 7862459 | 塗布装置および塗布方法 | 2026年 5月19日 | |
| 特許 7860776 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2026年 5月18日 | |
| 特許 7860779 | 処理液キャビネットの排気制御方法および基板処理装置 | 2026年 5月18日 | |
| 特許 7860845 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | 2026年 5月18日 | |
| 特許 7861074 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2026年 5月18日 |
369 件中 196-210 件を表示
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7864605 7864774 7863463 7863499 7863643 7862989 7863021 7863137 7863145 7862256 7862459 7860776 7860779 7860845 7861074
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