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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第63位 381件
(
2025年:第60位 443件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第53位 372件
(
2025年:第68位 348件)
(ランキング更新日:2026年11月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7824337 | 作業支援方法および作業支援システム | 2026年 3月 4日 | |
| 特許 7823198 | 基板処理方法 | 2026年 3月 3日 | |
| 特許 7822183 | 支援装置、支援方法および支援プログラム | 2026年 3月 2日 | |
| 特許 7821579 | 熱処理装置および熱処理方法 | 2026年 2月27日 | |
| 特許 7821650 | 可変光減衰器 | 2026年 2月27日 | |
| 特許 7821679 | 意味表現生成方法、意味表現生成装置、および、意味表現生成プログラム | 2026年 2月27日 | |
| 特許 7820982 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2026年 2月26日 | |
| 特許 7821013 | 検査システム、教師データ生成装置、教師データ生成方法およびプログラム | 2026年 2月26日 | |
| 特許 7821059 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2026年 2月26日 | |
| 特許 7821150 | 基板処理装置および基板処理システム | 2026年 2月26日 | |
| 特許 7820200 | 基板処理装置および監視方法 | 2026年 2月25日 | |
| 特許 7820202 | 基板処理装置、異常検出方法および異常検出プログラム | 2026年 2月25日 | |
| 特許 7820276 | 基板処理装置および搬送方法 | 2026年 2月25日 | |
| 特許 7820285 | 露光装置、露光方法、および機械学習モデルの作成方法 | 2026年 2月25日 | |
| 特許 7818985 | モデル選定方法および画像処理方法 | 2026年 2月24日 |
372 件中 301-315 件を表示
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7824337 7823198 7822183 7821579 7821650 7821679 7820982 7821013 7821059 7821150 7820200 7820202 7820276 7820285 7818985
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