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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第70位 588件 (2018年:第58位 667件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第46位 507件 (2018年:第48位 535件)
(ランキング更新日:2024年12月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2019-179746 | 局所真空装置、及び、真空領域の形成方法 | 2019年10月17日 | |
特開 2019-179747 | 荷電粒子装置、計測システム、及び、荷電粒子ビームの照射方法 | 2019年10月17日 | |
特開 2019-179748 | 荷電粒子装置、計測システム、及び、荷電粒子ビームの照射方法 | 2019年10月17日 | |
特開 2019-179751 | 局所真空装置、荷電粒子装置、及び、真空領域の形成方法 | 2019年10月17日 | |
特開 2019-179752 | 局所真空装置、荷電粒子装置、及び、真空領域の形成方法 | 2019年10月17日 | |
特開 2019-179753 | 局所真空装置、荷電粒子装置、及び、真空領域の形成方法 | 2019年10月17日 | |
特開 2019-179754 | 局所真空装置、荷電粒子装置、真空領域の形成方法及び荷電粒子の照射装置 | 2019年10月17日 | |
特開 2019-179769 | 荷電粒子装置、構造物の製造方法および構造物製造システム | 2019年10月17日 | |
再表 2018-92292 | 変倍光学系、これを用いた光学機器および撮像機器、並びにこの変倍光学系の製造方法 | 2019年10月10日 | |
再表 2018-92293 | 変倍光学系、これを用いた光学機器および撮像機器、並びにこの変倍光学系の製造方法 | 2019年10月10日 | |
再表 2018-92294 | 変倍光学系、これを用いた光学機器および撮像機器、並びにこの変倍光学系の製造方法 | 2019年10月10日 | |
再表 2018-92295 | 変倍光学系、光学機器、撮像機器および変倍光学系の製造方法 | 2019年10月10日 | |
再表 2018-92296 | 変倍光学系、光学機器、撮像機器および変倍光学系の製造方法 | 2019年10月10日 | |
再表 2018-92297 | 変倍光学系、光学機器、撮像機器および変倍光学系の製造方法 | 2019年10月10日 | |
特開 2019-174145 | ヘマトクリット値測定デバイス及びヘマトクリット値の測定方法 | 2019年10月10日 |
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12月24日(火) - 神奈川 川崎市
12月25日(水) -
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