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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1081位 20件 (2023年:第816位 33件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7572470 | 半導体工程用組成物、その製造方法およびこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2024年10月23日 | |
特許 7564272 | 研磨パッド用組成物、研磨パッド | 2024年10月 8日 | |
特許 7561813 | 積層体の製造方法及び積層体 | 2024年10月 4日 | |
特許 7558333 | コンディショナー及びそれを制御する方法{CONDITIONER AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME} | 2024年 9月30日 | |
特許 7554885 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 9月20日 | |
特許 7539518 | シャドーマスク及びそれを用いたブランクマスクの製造方法 | 2024年 8月23日 | |
特許 7539525 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 8月23日 | |
特許 7534366 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 8月14日 | |
特許 7528320 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 8月 5日 | |
特許 7527317 | 架橋度が調整された研磨パッドおよびその製造方法 | 2024年 8月 2日 | |
特許 7514897 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 7月11日 | |
特許 7499907 | 半導体工程用組成物及びそれを用いた半導体素子の製造方法 | 2024年 6月14日 | |
特許 7499908 | 半導体工程用組成物及びそれを用いた半導体素子の研磨方法 | 2024年 6月14日 | |
特許 7494243 | 半導体工程用研磨組成物および研磨組成物を適用した半導体素子の製造方法 | 2024年 6月 3日 | |
特許 7491984 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 5月28日 |
29 件中 1-15 件を表示
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7572470 7564272 7561813 7558333 7554885 7539518 7539525 7534366 7528320 7527317 7514897 7499907 7499908 7494243 7491984
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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