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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1174位 20件
(2023年:第816位 33件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第781位 30件
(2023年:第834位 28件)
(ランキング更新日:2025年4月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7603097 | 濡れ性改善研磨パッドおよびその製造方法 | 2024年12月19日 | |
特許 7572470 | 半導体工程用組成物、その製造方法およびこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2024年10月23日 | |
特許 7564272 | 研磨パッド用組成物、研磨パッド | 2024年10月 8日 | |
特許 7561813 | 積層体の製造方法及び積層体 | 2024年10月 4日 | |
特許 7558333 | コンディショナー及びそれを制御する方法{CONDITIONER AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME} | 2024年 9月30日 | |
特許 7554885 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 9月20日 | |
特許 7539518 | シャドーマスク及びそれを用いたブランクマスクの製造方法 | 2024年 8月23日 | |
特許 7539525 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 8月23日 | |
特許 7534366 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 8月14日 | |
特許 7528320 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 8月 5日 | |
特許 7527317 | 架橋度が調整された研磨パッドおよびその製造方法 | 2024年 8月 2日 | |
特許 7514897 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 7月11日 | |
特許 7499907 | 半導体工程用組成物及びそれを用いた半導体素子の製造方法 | 2024年 6月14日 | |
特許 7499908 | 半導体工程用組成物及びそれを用いた半導体素子の研磨方法 | 2024年 6月14日 | |
特許 7494243 | 半導体工程用研磨組成物および研磨組成物を適用した半導体素子の製造方法 | 2024年 6月 3日 |
30 件中 1-15 件を表示
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7603097 7572470 7564272 7561813 7558333 7554885 7539518 7539525 7534366 7528320 7527317 7514897 7499907 7499908 7494243
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4月15日(火) - 大阪 大阪市
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4月16日(水) - 東京 大田
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4月17日(木) - 東京 大田
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4月18日(金) -
4月18日(金) -
4月18日(金) - 北海道 千代田区
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4月23日(水) - 東京 千代田区
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4月24日(木) - 東京 港区
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