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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1174位 20件
(
2023年:第816位 33件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第781位 30件
(
2023年:第834位 28件)
(ランキング更新日:2025年10月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7491984 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 5月28日 | |
| 特許 7482187 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 5月13日 | |
| 特許 7482197 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 5月13日 | |
| 特許 7479536 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 5月 8日 | |
| 特許 7473607 | 研磨装置および半導体素子の製造方法 | 2024年 4月23日 | |
| 特許 7462707 | 半導体工程用研磨組成物および研磨組成物を適用した半導体素子の製造方法 | 2024年 4月 5日 | |
| 特許 7460858 | 上部電極、これを含む半導体素子の製造装置および半導体素子の製造方法 | 2024年 4月 2日 | |
| 特許 7454601 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 3月22日 | |
| 特許 7444986 | セラミック部品及びそれを含むプラズマエッチング装置 | 2024年 3月 6日 | |
| 特許 7441916 | 研磨パッドおよびこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2024年 3月 1日 | |
| 特許 7437368 | 研磨パッド、研磨パッドの製造方法及びそれを用いた半導体素子の製造方法 | 2024年 2月22日 | |
| 特許 7437473 | 研磨パッドのリフレッシュ方法、これを用いた半導体素子の製造方法および半導体素子の製造装置 | 2024年 2月22日 | |
| 特許 7428741 | ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク | 2024年 2月 6日 | |
| 特許 7416888 | 研磨パッドおよびこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2024年 1月17日 | |
| 特許 7407871 | ブランクマスク用基板の洗浄方法、ブランクマスク用基板及びそれを含むブランクマスク | 2024年 1月 4日 |
30 件中 16-30 件を表示
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7491984 7482187 7482197 7479536 7473607 7462707 7460858 7454601 7444986 7441916 7437368 7437473 7428741 7416888 7407871
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11月4日(火) -
11月4日(火) - 大阪 大阪市
11月4日(火) -
11月5日(水) -
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11月6日(木) - 東京 港区
11月6日(木) - 大阪 大阪市
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11月7日(金) -
11月7日(金) -
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