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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第494位 65件
(2021年:第562位 57件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第378位 78件
(2021年:第372位 70件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2022-184711 | リチウム二次電池用正極活物質、その製造方法およびこれを含むリチウム二次電池 | 2022年12月13日 | |
特開 2022-174027 | ESSの消火システム | 2022年11月22日 | |
特開 2022-173135 | 電極構造体、及びそれを含む全固体二次電池 | 2022年11月17日 | |
特開 2022-167890 | リチウム二次電池用負極およびこれを含むリチウム二次電池 | 2022年11月 4日 | |
特開 2022-159999 | ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法 | 2022年10月18日 | |
特開 2022-159208 | 複合正極活物質、それを採用した正極及びリチウム電池、並びにその製造方法 | 2022年10月17日 | |
特開 2022-151762 | 硬化型樹脂組成物、これから製造される薄膜、前記薄膜を含む色変換パネルおよび前記色変換パネルを含む表示装置 | 2022年10月 7日 | |
特開 2022-151809 | 粘着フィルム、それを含む光学部材およびそれを含む光学表示装置 | 2022年10月 7日 | |
特開 2022-151810 | 粘着フィルム、それを含む光学部材およびそれを含む光学表示装置 | 2022年10月 7日 | |
特開 2022-151811 | 粘着フィルム、それを含む光学部材およびそれを含む光学表示装置 | 2022年10月 7日 | |
特開 2022-145619 | タングステンパターンウェハー研磨用CMPスラリー組成物及びこれを用いたタングステンパターンウェハーの研磨方法 | 2022年10月 4日 | |
特開 2022-145631 | タングステンパターンウェハー研磨用CMPスラリー組成物及びこれを用いたタングステンパターンウェハーの研磨方法 | 2022年10月 4日 | |
特開 2022-137005 | 電極、それを含むリチウム電池、及びその製造方法 | 2022年 9月21日 | |
特表 2022-541041 | 二次電池 | 2022年 9月21日 | |
特開 2022-128598 | バッテリー管理システム | 2022年 9月 2日 |
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2022-184711 2022-174027 2022-173135 2022-167890 2022-159999 2022-159208 2022-151762 2022-151809 2022-151810 2022-151811 2022-145619 2022-145631 2022-137005 2022-541041 2022-128598
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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