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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第494位 65件
(2021年:第562位 57件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第378位 78件
(2021年:第372位 70件)
(ランキング更新日:2025年5月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2022-184711 | リチウム二次電池用正極活物質、その製造方法およびこれを含むリチウム二次電池 | 2022年12月13日 | |
特開 2022-174027 | ESSの消火システム | 2022年11月22日 | |
特開 2022-173135 | 電極構造体、及びそれを含む全固体二次電池 | 2022年11月17日 | |
特開 2022-167890 | リチウム二次電池用負極およびこれを含むリチウム二次電池 | 2022年11月 4日 | |
特開 2022-159999 | ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法 | 2022年10月18日 | |
特開 2022-159208 | 複合正極活物質、それを採用した正極及びリチウム電池、並びにその製造方法 | 2022年10月17日 | |
特開 2022-151762 | 硬化型樹脂組成物、これから製造される薄膜、前記薄膜を含む色変換パネルおよび前記色変換パネルを含む表示装置 | 2022年10月 7日 | |
特開 2022-151809 | 粘着フィルム、それを含む光学部材およびそれを含む光学表示装置 | 2022年10月 7日 | |
特開 2022-151810 | 粘着フィルム、それを含む光学部材およびそれを含む光学表示装置 | 2022年10月 7日 | |
特開 2022-151811 | 粘着フィルム、それを含む光学部材およびそれを含む光学表示装置 | 2022年10月 7日 | |
特開 2022-145619 | タングステンパターンウェハー研磨用CMPスラリー組成物及びこれを用いたタングステンパターンウェハーの研磨方法 | 2022年10月 4日 | |
特開 2022-145631 | タングステンパターンウェハー研磨用CMPスラリー組成物及びこれを用いたタングステンパターンウェハーの研磨方法 | 2022年10月 4日 | |
特開 2022-137005 | 電極、それを含むリチウム電池、及びその製造方法 | 2022年 9月21日 | |
特表 2022-541041 | 二次電池 | 2022年 9月21日 | |
特開 2022-128598 | バッテリー管理システム | 2022年 9月 2日 |
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