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三星エスディアイ株式会社

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  2024年 出願公開件数ランキング    第210位 167件 上昇2023年:第339位 102件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第346位 86件 上昇2023年:第462位 61件)

(ランキング更新日:2025年1月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-178141 偏光板およびこれを含む光学表示装置 2024年12月24日
特開 2024-178142 正極活物質、その製造方法、これを含む正極、およびリチウム二次電池 2024年12月24日
特開 2024-178143 正極活物質、その製造方法、これを含む正極、およびリチウム二次電池 2024年12月24日
特開 2024-177081 リチウム二次電池用電極およびこれを含むリチウム二次電池 2024年12月19日
特開 2024-177138 偏光板およびこれを含む光学表示装置 2024年12月19日
特開 2024-174855 全固体二次電池 2024年12月17日
特開 2024-170295 金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを利用した現像段階を含むパターン形成方法 2024年12月 6日
特開 2024-169310 パターン形成方法 2024年12月 5日
特開 2024-169332 金属含有フォトレジストのエッジビーズ除去用組成物または金属含有フォトレジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法 2024年12月 5日
特開 2024-169359 シリコン窒化膜エッチング用組成物およびこれを用いたシリコン窒化膜のエッチング方法 2024年12月 5日
特開 2024-167886 フォトレジスト上層膜用組成物およびこれを利用したパターン形成方法 2024年12月 4日
特開 2024-166091 パターン形成方法 2024年11月28日
特開 2024-164808 金属含有レジストのエッジビーズ除去用組成物、およびこれを用いたエッジビーズを除去する工程を含むパターン形成方法 2024年11月27日
特開 2024-163013 リチウム二次電池用負極およびこれを含むリチウム二次電池 2024年11月21日
特開 2024-161888 ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法 2024年11月20日

169 件中 1-15 件を表示

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2024-178141 2024-178142 2024-178143 2024-177081 2024-177138 2024-174855 2024-170295 2024-169310 2024-169332 2024-169359 2024-167886 2024-166091 2024-164808 2024-163013 2024-161888

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