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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第210位 167件
(
2023年:第339位 102件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第345位 86件
(
2023年:第462位 61件)
(ランキング更新日:2026年10月19日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-178143 | 正極活物質、その製造方法、これを含む正極、およびリチウム二次電池 | 2024年12月24日 | |
| 特開 2024-178142 | 正極活物質、その製造方法、これを含む正極、およびリチウム二次電池 | 2024年12月24日 | |
| 特開 2024-178141 | 偏光板およびこれを含む光学表示装置 | 2024年12月24日 | |
| 特開 2024-177138 | 偏光板およびこれを含む光学表示装置 | 2024年12月19日 | |
| 特開 2024-177081 | リチウム二次電池用電極およびこれを含むリチウム二次電池 | 2024年12月19日 | |
| 特開 2024-174855 | 全固体二次電池 | 2024年12月17日 | |
| 特開 2024-170295 | 金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを利用した現像段階を含むパターン形成方法 | 2024年12月 6日 | |
| 特開 2024-169310 | パターン形成方法 | 2024年12月 5日 | |
| 特開 2024-169332 | 金属含有フォトレジストのエッジビーズ除去用組成物または金属含有フォトレジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法 | 2024年12月 5日 | |
| 特開 2024-169359 | シリコン窒化膜エッチング用組成物およびこれを用いたシリコン窒化膜のエッチング方法 | 2024年12月 5日 | |
| 特開 2024-167886 | フォトレジスト上層膜用組成物およびこれを利用したパターン形成方法 | 2024年12月 4日 | |
| 特開 2024-166091 | パターン形成方法 | 2024年11月28日 | |
| 特開 2024-164808 | 金属含有レジストのエッジビーズ除去用組成物、およびこれを用いたエッジビーズを除去する工程を含むパターン形成方法 | 2024年11月27日 | |
| 特開 2024-163013 | リチウム二次電池用負極およびこれを含むリチウム二次電池 | 2024年11月21日 | |
| 特開 2024-161909 | バッテリー断熱シート用エアロゲル組成物、その製造方法、これを用いて形成したバッテリー断熱シート、及びこれを含むバッテリーモジュール | 2024年11月20日 |
169 件中 1-15 件を表示
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2024-178143 2024-178142 2024-178141 2024-177138 2024-177081 2024-174855 2024-170295 2024-169310 2024-169332 2024-169359 2024-167886 2024-166091 2024-164808 2024-163013 2024-161909
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