ホーム > 特許ランキング > 三星エスディアイ株式会社 > 2024年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(三星エスディアイ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2024年 出願公開件数ランキング 第210位 167件 (2023年:第339位 102件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第346位 86件 (2023年:第462位 61件)
(ランキング更新日:2025年1月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2024-178141 | 偏光板およびこれを含む光学表示装置 | 2024年12月24日 | |
特開 2024-178142 | 正極活物質、その製造方法、これを含む正極、およびリチウム二次電池 | 2024年12月24日 | |
特開 2024-178143 | 正極活物質、その製造方法、これを含む正極、およびリチウム二次電池 | 2024年12月24日 | |
特開 2024-177081 | リチウム二次電池用電極およびこれを含むリチウム二次電池 | 2024年12月19日 | |
特開 2024-177138 | 偏光板およびこれを含む光学表示装置 | 2024年12月19日 | |
特開 2024-174855 | 全固体二次電池 | 2024年12月17日 | |
特開 2024-170295 | 金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを利用した現像段階を含むパターン形成方法 | 2024年12月 6日 | |
特開 2024-169310 | パターン形成方法 | 2024年12月 5日 | |
特開 2024-169332 | 金属含有フォトレジストのエッジビーズ除去用組成物または金属含有フォトレジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法 | 2024年12月 5日 | |
特開 2024-169359 | シリコン窒化膜エッチング用組成物およびこれを用いたシリコン窒化膜のエッチング方法 | 2024年12月 5日 | |
特開 2024-167886 | フォトレジスト上層膜用組成物およびこれを利用したパターン形成方法 | 2024年12月 4日 | |
特開 2024-166091 | パターン形成方法 | 2024年11月28日 | |
特開 2024-164808 | 金属含有レジストのエッジビーズ除去用組成物、およびこれを用いたエッジビーズを除去する工程を含むパターン形成方法 | 2024年11月27日 | |
特開 2024-163013 | リチウム二次電池用負極およびこれを含むリチウム二次電池 | 2024年11月21日 | |
特開 2024-161888 | ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法 | 2024年11月20日 |
169 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2024-178141 2024-178142 2024-178143 2024-177081 2024-177138 2024-174855 2024-170295 2024-169310 2024-169332 2024-169359 2024-167886 2024-166091 2024-164808 2024-163013 2024-161888
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。三星エスディアイ株式会社の知財の動向チェックに便利です。
1月8日(水) -
1月8日(水) -
1月9日(木) -
1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月8日(水) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
東京都新宿区四谷2-12-5 四谷ISYビル3階 PDI特許商標事務所内 特許・実用新案 訴訟 鑑定 コンサルティング
福岡市博多区博多駅前3丁目25番21号 博多駅前ビジネスセンター411号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒500-8368 岐阜県 岐阜市 宇佐3丁目4番3号 4-3,Usa 3-Chome, Gifu-City, 500-8368 JAPAN 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング