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学校法人関西学院

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  2013年 出願公開件数ランキング    第2461位 9件 上昇2012年:第3044位 6件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第1588位 15件 上昇2012年:第6156位 2件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5376477 単結晶炭化ケイ素基板 2013年12月25日
特許 5360639 表面改質単結晶SiC基板、エピ成長層付き単結晶SiC基板、半導体チップ、単結晶SiC成長用種基板及び単結晶成長層付き多結晶SiC基板の製造方法 2013年12月 4日
特許 5311806 バイオシリカ製造法、およびバイオシリカ固定基板の製造法 2013年10月 9日
特許 5303758 イメージスケール作成方法、その装置、及びイメージスケール作成プログラム 2013年10月 2日
特許 5267902 多面体結晶構造模型 2013年 8月21日
特許 5267945 三次元微細加工方法及び三次元微細構造 2013年 8月21日
特許 5258798 3,6−O−架橋反転ピラノース化合物及びβ−O−ピラノシドの製造方法 2013年 8月 7日
特許 5251015 熱処理装置及び熱処理方法 2013年 7月31日
特許 5224256 単結晶炭化ケイ素基板の処理方法、半導体素子の製造方法 2013年 7月 3日
特許 5213095 単結晶炭化ケイ素基板の表面平坦化方法、単結晶炭化ケイ素基板の製造方法、及び単結晶炭化ケイ素基板 2013年 6月19日
特許 5213096 単結晶炭化ケイ素の液相エピタキシャル成長方法、単結晶炭化ケイ素基板の製造方法、及び単結晶炭化ケイ素基板 2013年 6月19日
特許 5207427 単結晶炭化ケイ素の液相生成方法、単結晶炭化ケイ素基板の液相エピタキシャル生成方法、単結晶炭化ケイ素基板の生成方法 2013年 6月12日
特許 5164121 単結晶炭化ケイ素成長方法 2013年 3月13日 共同出願
特許 5152715 三次元微細加工方法及び三次元微細構造 2013年 2月27日
特許 5152887 単結晶炭化ケイ素基板の表面改質方法、単結晶炭化ケイ素薄膜の形成方法、イオン注入アニール方法及び単結晶炭化ケイ素基板、単結晶炭化ケイ素半導体基板 2013年 2月27日

15 件中 1-15 件を表示

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5376477 5360639 5311806 5303758 5267902 5267945 5258798 5251015 5224256 5213095 5213096 5207427 5164121 5152715 5152887

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