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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第1908位 10件
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2024年:第1646位 13件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第570位 38件
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2024年:第834位 28件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7769846 | 半導体基板の製造方法、半導体基板、及び、成長層におけるクラックの発生を抑制する方法 | 2025年11月14日 | |
| 特許 7769847 | 窒化アルミニウム基板の製造方法、窒化アルミニウム基板、及び、窒化アルミニウム層におけるクラックの発生を抑制する方法 | 2025年11月14日 | |
| 特許 7758908 | 半導体基板の製造方法、半導体基板、及び、成長層を形成する方法 | 2025年10月23日 | |
| 特許 7758909 | 窒化アルミニウム基板の製造方法、窒化アルミニウム基板、及び、窒化アルミニウム層を形成する方法 | 2025年10月23日 | |
| 特許 7758910 | 炭化ケイ素基板の製造方法、炭化ケイ素基板、及び、レーザー加工により炭化ケイ素基板に導入された歪層を除去する方法 | 2025年10月23日 | |
| 特許 7751782 | SiC種結晶及びその製造方法、当該SiC種結晶を成長させたSiCインゴット及びその製造方法、並びに、当該SiCインゴットより製造されるSiCウェハ、エピタキシャル膜付きSiCウェハ及びこれらの製造方法 | 2025年10月 9日 | |
| 特許 7751837 | 質問処理装置、質問処理方法、およびプログラム | 2025年10月 9日 | |
| 特許 7748604 | 窒化アルミニウム基板の製造方法、窒化アルミニウム基板、及び、レーザー加工により窒化アルミニウム基板に導入された歪層を除去する方法 | 2025年10月 3日 | |
| 特許 7733281 | SiC単結晶の製造方法、SiC単結晶の製造装置及びSiC単結晶ウェハ | 2025年 9月 3日 | |
| 特許 7728537 | 多環芳香族化合物 | 2025年 8月25日 | |
| 特許 7723235 | SiC基板の製造方法 | 2025年 8月14日 | |
| 特許 7719469 | 有機電界発光素子 | 2025年 8月 6日 | |
| 特許 7717348 | フッ素置換多環芳香族化合物 | 2025年 8月 4日 | |
| 特許 7710670 | 多環芳香族化合物 | 2025年 7月22日 | |
| 特許 7705016 | SiC基板の製造方法 | 2025年 7月 9日 |
42 件中 1-15 件を表示
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7769846 7769847 7758908 7758909 7758910 7751782 7751837 7748604 7733281 7728537 7723235 7719469 7717348 7710670 7705016
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