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学校法人関西学院

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 ■ 2025年 出願公開件数ランキング    第1876位 11件 (下降2024年:第1646位 13件)

 ■ 2025年 特許取得件数ランキング    第581位 40件 (上昇2024年:第830位 28件)

(ランキング更新日:2026年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7792709 液晶素子及び液晶素子の製造方法 2025年12月26日
特許 7791397 改質窒化アルニウム原料の製造方法、改質窒化アルミニウム原料、窒化アルミニウム結晶の製造方法、ダウンフォール抑制方法 2025年12月24日
特許 7769847 窒化アルミニウム基板の製造方法、窒化アルミニウム基板、及び、窒化アルミニウム層におけるクラックの発生を抑制する方法 2025年11月14日
特許 7769846 半導体基板の製造方法、半導体基板、及び、成長層におけるクラックの発生を抑制する方法 2025年11月14日
特許 7758910 炭化ケイ素基板の製造方法、炭化ケイ素基板、及び、レーザー加工により炭化ケイ素基板に導入された歪層を除去する方法 2025年10月23日
特許 7758909 窒化アルミニウム基板の製造方法、窒化アルミニウム基板、及び、窒化アルミニウム層を形成する方法 2025年10月23日
特許 7758908 半導体基板の製造方法、半導体基板、及び、成長層を形成する方法 2025年10月23日
特許 7751837 質問処理装置、質問処理方法、およびプログラム 2025年10月 9日
特許 7751782 SiC種結晶及びその製造方法、当該SiC種結晶を成長させたSiCインゴット及びその製造方法、並びに、当該SiCインゴットより製造されるSiCウェハ、エピタキシャル膜付きSiCウェハ及びこれらの製造方法 2025年10月 9日
特許 7748604 窒化アルミニウム基板の製造方法、窒化アルミニウム基板、及び、レーザー加工により窒化アルミニウム基板に導入された歪層を除去する方法 2025年10月 3日
特許 7733281 SiC単結晶の製造方法、SiC単結晶の製造装置及びSiC単結晶ウェハ 2025年 9月 3日
特許 7728537 多環芳香族化合物 2025年 8月25日
特許 7723235 SiC基板の製造方法 2025年 8月14日
特許 7719469 有機電界発光素子 2025年 8月 6日
特許 7717348 フッ素置換多環芳香族化合物 2025年 8月 4日

44 件中 1-15 件を表示

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7792709 7791397 7769847 7769846 7758910 7758909 7758908 7751837 7751782 7748604 7733281 7728537 7723235 7719469 7717348

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