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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第5661位 3件
(2012年:第4129位 4件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2459位 8件
(2012年:第3844位 4件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5336708 | 浮上搬送装置 | 2013年11月 6日 | |
特許 5336707 | 浮上搬送装置 | 2013年11月 6日 | |
特許 5291300 | ワーク処理装置 | 2013年 9月18日 | |
特許 5291281 | 浮上搬送装置及び浮上搬送方法 | 2013年 9月18日 | 共同出願 |
特許 5227078 | 半導体装置及びその作製方法並びに半導体装置応用システム | 2013年 7月 3日 | 共同出願 |
特許 5221840 | 成膜方法並びに絶縁膜及び半導体集積回路 | 2013年 6月26日 | 共同出願 |
特許 5185726 | 気化器、薄膜形成装置及びMOCVD装置 | 2013年 4月17日 | 共同出願 |
特許 5134326 | 半導体装置の製造方法 | 2013年 1月30日 | 共同出願 |
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5336708 5336707 5291300 5291281 5227078 5221840 5185726 5134326
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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