ホーム > 特許ランキング > メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング > 2026年の出願公開
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第307位 17件
(
2025年:第254位 131件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第414位 10件
(
2025年:第342位 78件)
(ランキング更新日:2026年3月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2026-506796 | (6S)-5-メチルテトラヒドロ葉酸またはその塩を含む安定な液体調合物 | 2026年 2月26日 | |
| 特開 2026-31896 | 液晶化合物 | 2026年 2月25日 | |
| 特表 2026-506313 | 虚血性脳卒中および頭蓋内出血の治療のためのApTOLL分子 | 2026年 2月24日 | |
| 特表 2026-505838 | VHHをベースとしたNKp46バインダー | 2026年 2月18日 | |
| 特開 2026-26116 | 多環式TLR7/8アンタゴニスト及び免疫障害の治療におけるそれらの使用 | 2026年 2月16日 | |
| 特表 2026-504809 | 光学金属酸化物層を調製するための配合物 | 2026年 2月10日 | |
| 特表 2026-503962 | 抗PROTAC抗体および複合体 | 2026年 2月 3日 | |
| 特開 2026-15711 | がんなどの疾患の処置のためのインダゾリル-イソオキサゾール誘導体 | 2026年 1月30日 | |
| 特表 2026-503569 | パターン基板プリウェット組成物、レジストパターンの製造方法、加工基板の製造方法およびデバイスの製造方法 | 2026年 1月29日 | |
| 特表 2026-502575 | 導電率/抵抗率セル、浄水システム、およびサンプル液体の導電率および/または抵抗率を決定する方法 | 2026年 1月23日 | |
| 特表 2026-501131 | 液体タンク用マニフォールドおよび水浄化システム | 2026年 1月14日 | |
| 特表 2026-501184 | 3Dメルトドージングでの医薬製剤の製造 | 2026年 1月14日 | |
| 特開 2026-3131 | HPVポリペプチドおよびIL-2をコードするポックスウイルスと抗PD-L1抗体の組合せ | 2026年 1月 9日 | |
| 特表 2026-500467 | スピンコート集合及びそれらのエリア選択的堆積特性を介した液晶SAM | 2026年 1月 7日 | |
| 特開 2026-863 | 重合性化合物を含む液晶媒体 | 2026年 1月 6日 |
18 件中 1-15 件を表示
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2026-506796 2026-31896 2026-506313 2026-505838 2026-26116 2026-504809 2026-503962 2026-15711 2026-503569 2026-502575 2026-501131 2026-501184 2026-3131 2026-500467 2026-863
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