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(
2025年:第535位 53件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第266位 86件
(
2025年:第384位 70件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-168243 | 感放射線性組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 | 2026年10月15日 | |
| 特開 2026-168139 | オニウム塩化合物、感放射線性酸発生剤、感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法 | 2026年10月15日 | |
| 特開 2026-168013 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 | 2026年10月15日 | |
| 特開 2026-164890 | 樹脂組成物、硬化膜、積層体、および光学フィルター | 2026年10月 9日 | |
| 特開 2026-162456 | 抗菌及び/又は抗ウイルス性シルク | 2026年10月 8日 | |
| 特開 2026-161745 | 光学積層体および組成物 | 2026年10月 8日 | |
| 特開 2026-159259 | カラーフィルター保護膜用硬化性組成物、カラーフィルター保護膜及びその形成方法、並びに表示装置 | 2026年10月 7日 | |
| 特開 2026-156018 | 肝臓又は小腸オルガノイドの製造方法 | 2026年10月 6日 | |
| 特開 2026-155442 | 感放射線性組成物、硬化膜の製造方法、有機EL表示装置又は液晶表示装置の製造方法、及び化合物 | 2026年10月 6日 | |
| 特開 2026-153461 | 液晶表示装置の製造方法 | 2026年10月 2日 | |
| 特開 2026-153295 | 半導体処理用組成物及び処理方法 | 2026年10月 2日 | |
| 特開 2026-151249 | 半導体基板の製造方法及びレジスト下層膜形成用組成物 | 2026年 9月29日 | |
| 特開 2026-152732 | 感光性組成物、硬化物、硬化物の製造方法、表示装置、タッチパネル、重合体及び化合物 | 2026年 9月29日 | |
| 特開 2026-152736 | インクジェット塗布用組成物、インクジェット塗布用組成物を用いて形成された樹脂膜、有機EL表示装置及びその製造方法、並びに組成物 | 2026年 9月29日 | |
| 特開 2026-152804 | 感放射線性組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 | 2026年 9月29日 |
68 件中 1-15 件を表示
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