ＪＳＲ株式会社
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ＪＳＲ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-81765 | メタサーフェス反射板製造用組成物およびメタサーフェス反射板の製造方法 | 2026年 5月19日 | |
| 特開 2026-82136 | 液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜の欠陥修復方法、液晶装置の製造方法及び修復用光配向剤 | 2026年 5月19日 | |
| 特開 2026-79797 | 感放射線性組成物、硬化膜、半導体素子、表示素子、及び硬化膜の製造方法 | 2026年 5月15日 | |
| 特開 2026-78247 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、液晶素子、並びに重合体組成物 | 2026年 5月14日 | |
| 特開 2026-76982 | 感放射線性組成物、硬化物、レンズ、平坦化膜、硬化物の製造方法及び化合物 | 2026年 5月12日 | |
| 特開 2026-70668 | マイクロコーティング層形成用光硬化性組成物、マイクロコーティング層、並びに表示装置及びその製造方法 | 2026年 4月28日 | |
| 特開 2026-67953 | スルホニウム塩化合物及びそれを含む感放射線性酸発生剤 | 2026年 4月21日 | |
| 特開 2026-65909 | 半導体基板の製造方法及び膜形成用組成物 | 2026年 4月16日 | |
| 特開 2026-65129 | オニウム塩化合物 | 2026年 4月14日 | |
| 特開 2026-65160 | 化合物及び感放射線性酸発生剤 | 2026年 4月14日 | |
| 特表 2026-511559 | 光パターニング可能オルガノメタリックレジストのためのガス放出下層 | 2026年 4月14日 | |
| 特開 2026-63097 | 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 | 2026年 4月10日 | |
| 特開 2026-59723 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及びその製造方法 | 2026年 4月 7日 | |
| 特開 2026-58308 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 | 2026年 4月 3日 | |
| 特開 2026-50269 | 成膜方法 | 2026年 3月19日 |
30 件中 1-15 件を表示
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2026-81765 2026-82136 2026-79797 2026-78247 2026-76982 2026-70668 2026-67953 2026-65909 2026-65129 2026-65160 2026-511559 2026-63097 2026-59723 2026-58308 2026-50269
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