特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アイメック・ヴェーゼットウェー

※ ログインすれば出願人(アイメック・ヴェーゼットウェー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第1618位　15件（2018年：第1161位　22件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第1108位　17件（2018年：第1592位　11件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

アイメック・ヴェーゼットウェーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2019-536291	非平面装置を形成する方法	2019年12月12日
特開 2019-212896	背面接触の太陽電池におけるその場式の表面再不動態化方法	2019年12月12日
特開 2019-208022	ＩＩＩ−Ｎ半導体構造およびＩＩＩ−Ｎ半導体構造の形成方法	2019年12月 5日
特表 2019-533819	組み合わされたＳＴＥＭとＥＤＳの断層撮影のための装置	2019年11月21日
特開 2019-188386	高速サンプルローディングマイクロ流体反応器およびシステム	2019年10月31日
特表 2019-529070	流動中の物体を集束する方法および配置機構	2019年10月17日
特表 2019-526064	半導体製造プロセスのための計測方法および装置	2019年 9月12日
特開 2019-149539	窒化ガリウムチャネルデバイスの半導体構造を形成する方法	2019年 9月 5日
特開 2019-144238	レーダセンサを用いた関心空間の境界の決定のための方法	2019年 8月29日
特表 2019-521490	イオン挿入バッテリ電極及び製造方法	2019年 7月25日
特表 2019-518372	導波路構造	2019年 6月27日
特開 2019-96936	可変遅延回路、ＰＬＬ周波数シンセサイザ、電子機器	2019年 6月20日
特表 2019-514307	撮像センサおよび画像情報を読み出すための方法	2019年 5月30日
特開 2019-60855	半導体部品用の応力センサ	2019年 4月18日
特表 2019-508899	垂直ナノ構造を取り囲むターゲット層を配設する方法	2019年 3月28日

16 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2019-536291 2019-212896 2019-208022 2019-533819 2019-188386 2019-529070 2019-526064 2019-149539 2019-144238 2019-521490 2019-518372 2019-96936 2019-514307 2019-60855 2019-508899

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アイメック・ヴェーゼットウェーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数