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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第1750位 13件
(
2010年:第2670位 8件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2601位 7件
(
2010年:第1644位 12件)
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4764007 | ルツボの回転を利用して温度勾配を制御し単結晶シリコンを製造する方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4733029 | 安定化された理想的酸素析出シリコンウエハを製造する方法 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4700874 | 均一熱履歴を有する単結晶シリコンの製造法 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4683725 | 金属内容物が減少されたシリコン結晶を調整する処理及び装置 | 2011年 5月18日 | |
| 特許 4681063 | 内部ゲッタリング性の改良された熱アニーリングされたウエハ | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4644729 | 酸化誘起積層欠陥を実質的に有さない空孔優勢コアを有する低欠陥密度シリコン | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4611612 | 高成長速度を用いた低欠陥密度シリコンの製造方法 | 2011年 1月12日 |
7 件中 1-7 件を表示
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4764007 4733029 4700874 4683725 4681063 4644729 4611612
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【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
12月19日(金) - 神奈川 川崎市
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