特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第1750位　13件（2010年：第2670位　8件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第2601位　7件（2010年：第1644位　12件）

（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2011-530474	時間的に変化する磁場の印加による溶融シリコン中でのポンプ力の形成	2011年12月22日
特表 2011-527109	低熱容量半導体ウェハサポート	2011年10月20日
特表 2011-526876	アンバランス磁場及び同方向回転を用いた成長シリコン結晶の融液−固体界面形状の制御方法	2011年10月20日
特表 2011-526877	反応炉壁へのシリコンの析出を低減する流動層反応炉システム及び方法	2011年10月20日
特表 2011-526239	シリコン微粒子のリサイクルにより多結晶シリコン反応炉の生産性を向上させる方法	2011年10月 6日
特表 2011-522393	サポートボスを有するサセプタ	2011年 7月28日
特表 2011-522416	半導体ウェハの研磨装置及び研磨方法	2011年 7月28日
特表 2011-521442	シリコンウェハの端部をエッチングするための方法	2011年 7月21日
特表 2011-512036	インゴットをワイヤーソーによりスライスしてウェハとする際に使用される、カーボンナノチューブで強化されたワイヤーソー梁部	2011年 4月14日
特表 2011-508455	改善された膜厚均一性を有するエピタキシャルバレルサセプタ	2011年 3月10日
特表 2011-507719	ゆがみデータからのフィードバックを用いたナノトポグラフィーの制御及び最適化	2011年 3月10日
特表 2011-504156	四フッ化ケイ素の精製方法	2011年 2月 3日
特表 2011-502941	略不溶性ガスの融液への溶け込みを防止することによりシリコン結晶におけるエアーポケットを低減させる方法	2011年 1月27日

13 件中 1-13 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-530474 2011-527109 2011-526876 2011-526877 2011-526239 2011-522393 2011-522416 2011-521442 2011-512036 2011-508455 2011-507719 2011-504156 2011-502941

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数