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エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド

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エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2011-530474	時間的に変化する磁場の印加による溶融シリコン中でのポンプ力の形成	2011年12月22日
特表 2011-527109	低熱容量半導体ウェハサポート	2011年10月20日
特表 2011-526876	アンバランス磁場及び同方向回転を用いた成長シリコン結晶の融液−固体界面形状の制御方法	2011年10月20日
特表 2011-526877	反応炉壁へのシリコンの析出を低減する流動層反応炉システム及び方法	2011年10月20日
特表 2011-526239	シリコン微粒子のリサイクルにより多結晶シリコン反応炉の生産性を向上させる方法	2011年10月 6日
特表 2011-522393	サポートボスを有するサセプタ	2011年 7月28日
特表 2011-522416	半導体ウェハの研磨装置及び研磨方法	2011年 7月28日
特表 2011-521442	シリコンウェハの端部をエッチングするための方法	2011年 7月21日
特表 2011-512036	インゴットをワイヤーソーによりスライスしてウェハとする際に使用される、カーボンナノチューブで強化されたワイヤーソー梁部	2011年 4月14日
特表 2011-508455	改善された膜厚均一性を有するエピタキシャルバレルサセプタ	2011年 3月10日
特表 2011-507719	ゆがみデータからのフィードバックを用いたナノトポグラフィーの制御及び最適化	2011年 3月10日
特表 2011-504156	四フッ化ケイ素の精製方法	2011年 2月 3日
特表 2011-502941	略不溶性ガスの融液への溶け込みを防止することによりシリコン結晶におけるエアーポケットを低減させる方法	2011年 1月27日

13 件中 1-13 件を表示

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2011-530474 2011-527109 2011-526876 2011-526877 2011-526239 2011-522393 2011-522416 2011-521442 2011-512036 2011-508455 2011-507719 2011-504156 2011-502941

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