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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1216位 24件 (2012年:第2159位 10件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2264位 9件 (2012年:第3300位 5件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5349680 | 引いた対象物を重量測定するためのシステムおよび方法 | 2013年11月20日 | |
特許 5344822 | 成長するシリコン結晶のメルト−固体界面形状の可変磁界を用いる制御 | 2013年11月20日 | |
特許 5261194 | 高い熱伝導率を有する半導体ウエハ | 2013年 8月14日 | |
特許 5238258 | 高純度顆粒状シリコン及びその製造方法 | 2013年 7月17日 | |
特許 5237390 | 改善された膜厚均一性を有するエピタキシャルバレルサセプタ | 2013年 7月17日 | |
特許 5238251 | シリコンウエハ中の金属汚染低減のための方法 | 2013年 7月17日 | |
特許 5231449 | 平滑なウェハの製造方法 | 2013年 7月10日 | |
特許 5138678 | CZ成長中のシリコン単結晶側表面から誘起される凝集点欠陥および酸素クラスターの形成制御 | 2013年 2月 6日 | |
特許 5127451 | 部分的に失透化させたルツボ | 2013年 1月23日 |
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5349680 5344822 5261194 5238258 5237390 5238251 5231449 5138678 5127451
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