ホーム > 特許ランキング > エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド > 2012年 > 出願公開一覧
エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド
※ ログインすれば出願人(エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第2159位 10件
（
2011年：第1750位 13件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第3300位 5件
（2011年：第2601位 7件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-236768 | 高純度顆粒状シリコン及びその製造方法 | 2012年12月 6日 | |
| 特表 2012-522250 | 引っ張られた対象物を重量測定するためのシステムおよび方法 | 2012年 9月20日 | |
| 特開 2012-162453 | 粒状材料を製造するための方法およびシステムならびに粒状材料中の粉塵成分を減少させるためおよび測定するための方法およびシステム | 2012年 8月30日 | |
| 特表 2012-512132 | 流動層反応炉においてフルオロシリケートから四フッ化ケイ素を生成するプロセス及びシステム | 2012年 5月31日 | |
| 特表 2012-510144 | 高温環境における半導体ウエハのための支持体 | 2012年 4月26日 | |
| 特表 2012-510180 | シリコン−オン−インシュレータ構造体を処理する方法 | 2012年 4月26日 | |
| 特表 2012-509599 | 半導体ウェーハのエッジを剥離する方法及びシステム | 2012年 4月19日 | |
| 特表 2012-503312 | 熱処理工程の間半導体ウェーハを支持するウェーハホルダ | 2012年 2月 2日 | |
| 特表 2012-501545 | ３次元マルチゲートＭＯＳＦＥＴの製造に有用であるバルクシリコンウェハー製品 | 2012年 1月19日 | |
| 特表 2012-500775 | シリコン島の高さを連続的に測定するための方法および装置 | 2012年 1月12日 |
10 件中 1-10 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2012-236768 2012-522250 2012-162453 2012-512132 2012-510144 2012-510180 2012-509599 2012-503312 2012-501545 2012-500775
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
愛知県豊橋市西幸町字浜池３３３－９ 豊橋サイエンスコア１０９ 特許・実用新案 商標
東京都港区北青山2丁目7番20号 第二猪瀬ビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒105-0001 東京都港区虎ノ門1丁目14番1号 郵政福祉琴平ビル 3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
