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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第46位 752件
(2020年:第42位 791件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第56位 435件
(2020年:第49位 479件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6970550 | 欠陥検査システム及び欠陥検査方法 | 2021年11月24日 | |
特許 6970671 | リチウムニッケル複合酸化物の製造方法 | 2021年11月24日 | |
特許 6970739 | チタン含有珪素酸化物の製造方法、エポキシドの製造方法、及びチタン含有珪素酸化物 | 2021年11月24日 | |
特許 6971193 | アルミナ粉末およびこれを含有するスラリー、アルミナ多孔膜およびこれを備えた積層セパレータ、並びに非水電解液二次電池およびその製造方法 | 2021年11月24日 | |
特許 6972912 | 組成物及びそれを用いた発光素子 | 2021年11月24日 | |
特許 6966445 | アルミナおよびそれを用いた自動車触媒の製造方法 | 2021年11月17日 | |
特許 6966959 | リチウム金属複合酸化物、リチウム二次電池用正極活物質、正極及びリチウム二次電池 | 2021年11月17日 | |
特許 6967511 | 芳香族ポリスルホンおよび芳香族ポリスルホン組成物 | 2021年11月17日 | |
特許 6967679 | 積層光学フィルム | 2021年11月17日 | |
特許 6968531 | プロテクトフィルム付偏光板の製造方法 | 2021年11月17日 | |
特許 6968854 | 偏光板の製造方法及び偏光板 | 2021年11月17日 | |
特許 6963887 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2021年11月10日 | |
特許 6963893 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2021年11月10日 | |
特許 6963960 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2021年11月10日 | |
特許 6963972 | 酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2021年11月10日 |
473 件中 46-60 件を表示
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6970550 6970671 6970739 6971193 6972912 6966445 6966959 6967511 6967679 6968531 6968854 6963887 6963893 6963960 6963972
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