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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第2044位 11件 (2018年:第1542位 15件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第1440位 12件 (2018年:第1497位 12件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6596634 | 強誘電体セラミックス、電子部品及び強誘電体セラミックスの製造方法 | 2019年10月30日 | |
特許 6598032 | 強誘電体セラミックス及びその製造方法 | 2019年10月30日 | |
特許 6569149 | 強誘電体セラミックス、強誘電体メモリ及びその製造方法 | 2019年 9月 4日 | |
特許 6517994 | 保護膜、保護膜付き容器、その製造方法及びプラズマCVD装置 | 2019年 5月22日 | |
特許 6501250 | Liイオン伝導性微粒子及びその製造方法、アモルファスLiPON微粒子の製造方法、電解質層及び電極層の製造方法、リチウムイオン二次電池及びその製造方法 | 2019年 4月17日 | |
特許 6496898 | 電子部品の製造方法 | 2019年 4月10日 | |
特許 6497709 | プラズマCVD装置及び磁気記録媒体の製造方法 | 2019年 4月10日 | |
特許 6497712 | 配向基板、配向膜基板の製造方法、スパッタリング装置及びマルチチャンバー装置 | 2019年 4月10日 | |
特許 6497713 | 配向基板、配向膜基板の製造方法、スパッタリング装置及びマルチチャンバー装置 | 2019年 4月10日 | |
特許 6498821 | 膜構造体及びその製造方法 | 2019年 4月10日 | |
特許 6488468 | 圧電膜及び圧電セラミックス | 2019年 3月27日 | |
特許 6481138 | 配向膜基板の製造方法、スパッタリング装置及びマルチチャンバー装置 | 2019年 3月13日 | |
特許 6481153 | 強誘電体セラミックス及びその製造方法 | 2019年 3月13日 |
13 件中 1-13 件を表示
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6596634 6598032 6569149 6517994 6501250 6496898 6497709 6497712 6497713 6498821 6488468 6481138 6481153
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