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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5816891 | 被成膜基材への薄膜の成膜方法及びスパッタ装置 | 2015年11月18日 | |
特許 5810462 | プラズマ処理装置及び基材の表面処理方法 | 2015年11月11日 | |
特許 5799294 | 強誘電体膜 | 2015年10月21日 | |
特許 5795390 | 微粒子の製造方法 | 2015年10月14日 | |
特許 5764780 | ポーリング処理方法及び圧電体の製造方法 | 2015年 8月19日 | |
特許 5764788 | 反応装置及び反応方法 | 2015年 8月19日 | |
特許 5764789 | プラズマCVD装置及び磁気記録媒体の製造方法 | 2015年 8月19日 | |
特許 5747186 | プラズマCVD装置、SiO2膜又はSiOF膜及びその成膜方法 | 2015年 7月 8日 | |
特許 5747187 | 熱CVD装置、SiO2膜又はSiOF膜及びその成膜方法 | 2015年 7月 8日 | |
特許 5721923 | 表面処理微粒子、表面処理装置及び微粒子の表面処理方法 | 2015年 5月20日 | |
特許 5703439 | 金属プレート及びオスミウム膜の成膜方法 | 2015年 4月22日 | |
特許 5703440 | 圧電体回折格子、プロジェクター、発光装置及び表示装置 | 2015年 4月22日 | |
特許 5699297 | 基板処理装置及び薄膜の製造方法 | 2015年 4月 8日 | |
特許 5699299 | 強誘電体膜の製造方法、強誘電体膜及び圧電素子 | 2015年 4月 8日 |
14 件中 1-14 件を表示
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5816891 5810462 5799294 5795390 5764780 5764788 5764789 5747186 5747187 5721923 5703439 5703440 5699297 5699299
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