日立金属株式会社
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第163位 180件
（
2025年：第104位 303件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第103位 207件
（
2025年：第144位 210件）
（ランキング更新日：2026年10月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日立金属株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7852793 | 被覆部材 | 2026年 4月28日 | |
| 特許 7848646 | サージ抑制装置 | 2026年 4月21日 | |
| 特許 7848906 | 積層構造体、ケーブル、チューブ及び積層構造体の製造方法 | 2026年 4月21日 | |
| 特許 7844937 | 熱間鍛造材の製造方法 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7845018 | 制御システム、姿勢調整装置及び制御方法 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7845134 | 位置検出装置及び車両用転舵装置 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7845150 | 荷重センサ | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7845393 | 溶解原料の製造方法、および溶解原料 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7845446 | ＳｉＣエピタキシャル基板 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7845485 | 炭化ケイ素単結晶の製造方法、回帰モデル生成装置、組成推定装置、プログラム、記録媒体、回帰モデル生成方法および組成推定方法 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7845521 | ＳｉＣウェハ、単結晶エピタキシャル層、および、ＳｉＣウェハの製造方法 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7845528 | ケーブル状態管理システム | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7845545 | シンチレータ構造体及びＸ線検出器 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7845598 | セラミックス配線基板、セラミックス配線基板の製造方法、および、セラミックス配線基板用ろう材 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7843436 | 樹脂組成物の耐久物性予測方法及び装置 | 2026年 4月10日 |
208 件中 121-135 件を表示
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7852793 7848646 7848906 7844937 7845018 7845134 7845150 7845393 7845446 7845485 7845521 7845528 7845545 7845598 7843436
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