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ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第2114位 10件
（
2019年：第1102位 25件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第951位 21件
（2019年：第787位 27件）
（ランキング更新日：2026年3月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2020-533733 | イオン注入のための装置、システムおよび方法 | 2020年11月19日 | |
| 特表 2020-531890 | イオン注入によるＥＵＶフォトレジストの性能向上 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-161485 | スキャン後の湾曲電極のイオン注入システムの装置 | 2020年10月 1日 | |
| 特開 2020-129567 | ビーム電流動作の広い範囲におけるイオンビームの制御 | 2020年 8月27日 | |
| 特開 2020-115559 | 熱絶縁電気接点プローブ及び加熱プラテンアセンブリ | 2020年 7月30日 | |
| 特開 2020-102454 | イオンビームを制御する装置 | 2020年 7月 2日 | |
| 特表 2020-511590 | ドーパント種をワークピース上に堆積する堆積方法、ドーパント種をワークピース内に注入する注入方法及びワークピースを処理するワークピース処理方法 | 2020年 4月16日 | |
| 特開 2020-40874 | 融液上に成長した結晶シートの厚さを制御する装置および方法 | 2020年 3月19日 | |
| 特表 2020-506510 | 抑制電極の熱変形を制御するための装置及びイオンビームの均一性を制御するための装置 | 2020年 2月27日 | |
| 特表 2020-502742 | イオンビーム装置のためのガス圧入システム | 2020年 1月23日 |
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2020-533733 2020-531890 2020-161485 2020-129567 2020-115559 2020-102454 2020-511590 2020-40874 2020-506510 2020-502742
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