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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2162位 10件
(2020年:第2114位 10件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第664位 33件
(2020年:第951位 21件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2021-508768 | 化学蒸着プロセスにおける前駆体を制御するための技術 | 2021年 3月11日 | |
特表 2021-508143 | ワークピース処理用の低粒子容量結合成分 | 2021年 2月25日 | |
特表 2021-507461 | イオンビームを制御する装置および方法 | 2021年 2月22日 | |
特表 2021-507462 | イオン源の動的温度制御 | 2021年 2月22日 | |
特表 2021-506132 | メモリデバイス、半導体デバイスを製造する方法及びデバイス構造 | 2021年 2月18日 | |
特開 2021-9842 | イオン注入システム及びその場(in situ)プラズマクリーニング方法 | 2021年 1月28日 | |
特表 2021-501962 | イオンビームシステムにおけるビームマッピングのための装置と技術 | 2021年 1月21日 | |
特表 2021-501963 | イオン注入システム、イオン注入装置及び抽出プレート | 2021年 1月21日 | |
特表 2021-501991 | 半導体デバイスおよびその製造方法 | 2021年 1月21日 | |
特表 2021-501470 | ワークピース背面の損傷を最小限に抑えるためのシステムおよび方法 | 2021年 1月14日 |
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