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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第3054位 6件
(
2017年:第12799位 1件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第23370位 0件
(
2017年:第5450位 2件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2018-538686 | 薄いケイ素基板の応力制御 | 2018年12月27日 | |
| 特表 2018-532264 | 複数チャンバー化学蒸着システム | 2018年11月 1日 | |
| 特表 2018-532276 | STT−RAM構造のイオンビームエッチング | 2018年11月 1日 | |
| 特表 2018-525527 | 化学気相蒸着システム及びプロセスにおいて熱均一性を向上させるプロセス特異的ウェハーキャリアー補正 | 2018年 9月 6日 | |
| 特表 2018-523921 | 化学蒸着システムにおける制御されたドーパントの取込み及び活性化のための方法及び装置 | 2018年 8月23日 | |
| 特表 2018-520499 | ヘテロエピタキシーの応力制御 | 2018年 7月26日 |
6 件中 1-6 件を表示
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2018-538686 2018-532264 2018-532276 2018-525527 2018-523921 2018-520499
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