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ディーエイチ テクノロジーズ デベロップメント プライベート リミテッド
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第4232位 4件
（
2024年：第927位 26件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第1286位 15件
（
2024年：第2757位 6件）
（ランキング更新日：2026年10月19日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ディーエイチ テクノロジーズ デベロップメント プライベート リミテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7792352 | 質量分析法による固相親和性選択 | 2025年12月25日 | |
| 特許 7785009 | 第３段階における追加のクラスタ分離を伴う３段階大気圧／真空遷移式質量分析計吸気口 | 2025年12月12日 | |
| 特許 7762203 | 質量分析の堅牢性を強化するためにバンドパスフィルタリング衝突セルを使用して高強度イオンビームのＭＳ／ＭＳを実施する方法 | 2025年10月29日 | |
| 特許 7733721 | 質量分析法におけるイオン隔離機能性を伴う電子励起解離反応デバイス | 2025年 9月 3日 | |
| 特許 7729840 | 単一イオン検出事象の荷電状態決定 | 2025年 8月26日 | |
| 特許 7697941 | 閾値ベースのＩＤＡ除外リスト | 2025年 6月24日 | |
| 特許 7692414 | キャピラリ電気泳動のためのデュアルモード走査光学システム | 2025年 6月13日 | |
| 特許 7683086 | 質量分析における単一電荷状態時の前駆体蓄積 | 2025年 5月26日 | |
| 特許 7667250 | 質量分析法における荷電状態割り当てのためのシステムおよび方法 | 2025年 4月22日 | |
| 特許 7664272 | エレクトロスプレーイオン源アセンブリ | 2025年 4月17日 | |
| 特許 7657771 | イオンビームの減衰のための拡大させられたダイナミックレンジ | 2025年 4月 7日 | |
| 特許 7645809 | トップダウン抗体解析における背景低減 | 2025年 3月14日 | |
| 特許 7624400 | パラメータ調節を伴わないピーク積分補正 | 2025年 1月30日 | |
| 特許 7616810 | 電子誘起解離デバイスおよび方法 | 2025年 1月17日 | |
| 特許 7611343 | 生成イオンスペクトルのデータ独立取得および参照スペクトルライブラリ照合 | 2025年 1月 9日 |
15 件中 1-15 件を表示
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7792352 7785009 7762203 7733721 7729840 7697941 7692414 7683086 7667250 7664272 7657771 7645809 7624400 7616810 7611343
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