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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第1434位 17件 (2010年:第2282位 10件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2389位 8件 (2010年:第2174位 8件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2011-528506 | ナノ−インプリント・リソグラフィのための内部空洞システム | 2011年11月17日 | |
特開 2011-193005 | インプリント層に閉じ込められるガスを減少させるための方法 | 2011年 9月29日 | 共同出願 |
特開 2011-171747 | ナノスケール製造技術における流体の分配およびドロップ・オン・デマンド分配技術 | 2011年 9月 1日 | |
特表 2011-521438 | インプリント・リソグラフィにおけるはみ出し低減 | 2011年 7月21日 | |
特表 2011-520641 | 大面積ロールツーロール・インプリント・リソグラフィ | 2011年 7月21日 | 共同出願 |
特開 2011-101016 | インプリント・リソグラフィの散乱計測アラインメント | 2011年 5月19日 | |
特表 2011-514658 | 単一位相流体インプリント・リソグラフィ法 | 2011年 5月 6日 | |
特表 2011-513972 | テンプレート形成時の限界寸法制御 | 2011年 4月28日 | |
特表 2011-513973 | リアルタイム・インプリント・プロセス欠陥診断法 | 2011年 4月28日 | |
特表 2011-512019 | 接触線運動トラッキング制御に基づく高スループット・インプリント | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77529 | 流体チャンバのアレイを備えるチャック・システム | 2011年 4月14日 | |
特表 2011-509516 | 空間位相フィーチャ・ロケーション | 2011年 3月24日 | |
特表 2011-508680 | 極薄ポリマー接着層 | 2011年 3月17日 | |
特表 2011-508686 | 複数表面上の接触角の低減 | 2011年 3月17日 | |
特表 2011-505270 | ナノインプリント・リソグラフィ用の多孔質テンプレートおよびインプリント用スタック | 2011年 2月24日 |
17 件中 1-15 件を表示
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2011-528506 2011-193005 2011-171747 2011-521438 2011-520641 2011-101016 2011-514658 2011-513972 2011-513973 2011-512019 2011-77529 2011-509516 2011-508680 2011-508686 2011-505270
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1月31日(金) -
1月31日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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