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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第1243位 21件
(
2011年:第1434位 17件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第1978位 11件
(
2011年:第2389位 8件)
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2012-532448 | 引っ込んだ支持特徴部を有するチャッキングシステム | 2012年12月13日 | |
| 特開 2012-195610 | インプリントリソグラフィ用の材料 | 2012年10月11日 | 共同出願 |
| 特開 2012-94901 | 固化したインプリンティング材料からモールドを分離する方法 | 2012年 5月17日 | |
| 特表 2012-508978 | ナノサイズ形状の大面積パターニング | 2012年 4月12日 | 共同出願 |
| 特表 2012-507859 | インプリント・リソグラフィ工程における剥離 | 2012年 3月29日 | |
| 特表 2012-507883 | インプリント・リソグラフィーにおける離型剤分離制御 | 2012年 3月29日 | |
| 特表 2012-507391 | 基板とパターン形成層との間の接着性の促進 | 2012年 3月29日 | |
| 特表 2012-507882 | エッジ・フィールドでのナノインプリントのためのアライメント | 2012年 3月29日 | |
| 特表 2012-507141 | インプリント・プロセスの分離段階における歪みと動特性の制御 | 2012年 3月22日 | |
| 特表 2012-507140 | 高歩留まりナノインプリント・リソグラフィ・テンプレートの製造 | 2012年 3月22日 | |
| 特表 2012-507138 | インプリント・リソグラフィ装置、および方法 | 2012年 3月22日 | |
| 特表 2012-507173 | ステージ制御用光学システム | 2012年 3月22日 | |
| 特開 2012-54612 | 表面にリセスを形成する方法 | 2012年 3月15日 | |
| 特表 2012-506600 | エッジ加重による液滴パターン生成 | 2012年 3月15日 | |
| 特表 2012-506618 | 基板からテンプレートを分離する際の応力の低減 | 2012年 3月15日 |
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2012-532448 2012-195610 2012-94901 2012-508978 2012-507859 2012-507883 2012-507391 2012-507882 2012-507141 2012-507140 2012-507138 2012-507173 2012-54612 2012-506600 2012-506618
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