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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1796位 14件 (2012年:第1243位 21件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1588位 15件 (2012年:第1978位 11件)
(ランキング更新日:2025年2月6日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2013-543456 | 多段インプリントによるハイコントラストな整列マーク | 2013年12月 5日 | |
特表 2013-542591 | インプリント・リソフラフィで用いる蒸気供給システム | 2013年11月21日 | |
特表 2013-539204 | 汚染検出及び基板のクリーニング | 2013年10月17日 | |
特表 2013-538443 | 酸化ケイ素層の強化された高密度化方法 | 2013年10月10日 | |
特表 2013-532369 | ナノインプリント・リソグラフィのテンプレート製作方法およびそのシステム | 2013年 8月15日 | |
特開 2013-157607 | 基板保持装置 | 2013年 8月15日 | |
特表 2013-519236 | 高コントラスト位置合わせマークを有するテンプレート | 2013年 5月23日 | |
特表 2013-519228 | ナノインプリントのためのプロセスガス閉じ込め | 2013年 5月23日 | |
特表 2013-518446 | 材料除去及びパターン転写の方法及びシステム | 2013年 5月20日 | |
特表 2013-517943 | ナノ粒子を形成するためのナノインプリントリソグラフィプロセス | 2013年 5月20日 | |
特表 2013-513950 | インプリント・リソグラフィ用テンプレート | 2013年 4月22日 | |
特表 2013-507770 | 大面積線形アレイのナノインプリンティング | 2013年 3月 4日 | |
特表 2013-503057 | 機能ナノ粒子 | 2013年 1月31日 | 共同出願 |
特表 2013-501375 | 隣接するフィールドのアラインメント方法 | 2013年 1月10日 |
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2013-543456 2013-542591 2013-539204 2013-538443 2013-532369 2013-157607 2013-519236 2013-519228 2013-518446 2013-517943 2013-513950 2013-507770 2013-503057 2013-501375
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2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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