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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第3484位 5件
(2013年:第1796位 14件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1602位 15件
(2013年:第1588位 15件)
(ランキング更新日:2025年6月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2014-160844 | インプリント・プロセスの分離段階における歪みと動特性の制御 | 2014年 9月 4日 | |
特表 2014-522100 | 位置合わせマーク用光学吸収材 | 2014年 8月28日 | |
特開 2014-150263 | インサイチュ嵌込み構造物形成方法 | 2014年 8月21日 | |
特表 2014-505018 | 二重剥離層を用いる機能性ナノ粒子のナノインプリントリソグラフィ形成 | 2014年 2月27日 | 共同出願 |
特表 2014-502418 | 非凸形ナノ構造のパターン形成 | 2014年 1月30日 | 共同出願 |
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2014-160844 2014-522100 2014-150263 2014-505018 2014-502418
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