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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第4198位 4件 (2014年:第3484位 5件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1350位 14件 (2014年:第1602位 15件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5833636 | ナノインプリント・リソグラフィのテンプレート製作方法およびそのシステム | 2015年12月16日 | |
特許 5833649 | 基板の表面汚染を検出する方法 | 2015年12月16日 | |
特許 5802557 | インプリント・リソグラフィ・システムでの硬化用のエネルギー源 | 2015年10月28日 | |
特許 5793140 | 引っ込んだ支持特徴部を有するチャッキングシステム | 2015年10月14日 | |
特許 5782460 | 材料除去及びパターン転写の方法及びシステム | 2015年 9月24日 | |
特許 5769734 | 高コントラスト位置合わせマークを有するテンプレート | 2015年 8月26日 | |
特許 5753132 | インプリントリソグラフィ用の材料 | 2015年 7月22日 | |
特許 5753263 | 酸化ケイ素層の強化された高密度化方法 | 2015年 7月22日 | |
特許 5745532 | インプリント・リソグラフィ用テンプレート | 2015年 7月 8日 | |
特許 5727788 | ナノインプリント・リソグラフィ用の多孔質テンプレートおよびインプリント用スタック | 2015年 6月 3日 | |
特許 5728478 | 隣接するフィールドのアラインメント方法 | 2015年 6月 3日 | |
特許 5728602 | インプリント・プロセスの分離段階における歪みと動特性の制御 | 2015年 6月 3日 | |
特許 5723779 | ナノサイズ形状の大面積パターニング | 2015年 5月27日 | |
特許 5714496 | インプリント・リソグラフィーにおける離型剤分離制御 | 2015年 5月 7日 |
14 件中 1-14 件を表示
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5833636 5833649 5802557 5793140 5782460 5769734 5753132 5753263 5745532 5727788 5728478 5728602 5723779 5714496
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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9月26日(木) -
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