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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1796位 14件
(2012年:第1243位 21件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1588位 15件
(2012年:第1978位 11件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5335156 | 基板保持装置 | 2013年11月 6日 | |
特許 5306989 | 複数のフィールド及びアライメント・マークを有する基板を同時にパターニングする方法 | 2013年10月 2日 | |
特許 5289577 | インプリント・リソグラフィ装置用の真空チャックを備えた装置 | 2013年 9月11日 | |
特許 5275399 | インプリント層に閉じ込められるガスを減少させるための方法 | 2013年 8月28日 | 共同出願 |
特許 5258973 | インプリント・リソグラフィ工程における剥離 | 2013年 8月 7日 | |
特許 5247153 | 基板上に配置された固化層からモールドを分離させる方法 | 2013年 7月24日 | |
特許 5236484 | 固化したインプリンティング材料からモールドを分離する方法 | 2013年 7月17日 | |
特許 5216871 | インプリント・リソグラフィにおけるはみ出し低減 | 2013年 6月19日 | |
特許 5198071 | インプリントリソグラフィ・プロセスにおける熱管理のための露光方法 | 2013年 5月15日 | |
特許 5198070 | ナノスケールのデバイスを製造するための干渉分析 | 2013年 5月15日 | |
特許 5198282 | 基板とモールドとの間に位置するガスを排出するための方法 | 2013年 5月15日 | |
特許 5184508 | インプリント・リソグラフィ・システム | 2013年 4月17日 | |
特許 5180381 | 基板からテンプレートを分離する際の応力の低減 | 2013年 4月10日 | |
特許 5159957 | ステージ制御用光学システム | 2013年 3月13日 | |
特許 5139421 | 厚さが変化するテンプレート | 2013年 2月 6日 |
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5335156 5306989 5289577 5275399 5258973 5247153 5236484 5216871 5198071 5198070 5198282 5184508 5180381 5159957 5139421
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10月23日(木) - 東京 港区
10月23日(木) -
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10月24日(金) -
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