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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第1982位 10件
(
2024年:第1646位 13件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第2009位 8件
(
2024年:第2757位 6件)
(ランキング更新日:2025年12月26日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7763181 | 無機レジストパターニング用のプロセス環境 | 2025年10月31日 | |
| 特許 7760573 | 有機金属溶液に基づいた高解像度パターニング組成物 | 2025年10月27日 | |
| 特許 7715703 | 有機金属の金属カルコゲナイドクラスター及びリソグラフィへの応用 | 2025年 7月30日 | |
| 特許 7700151 | 中間凍結工程による有機金属光パターニング可能層を用いたマルチパターニング | 2025年 6月30日 | |
| 特許 7689218 | パターン形成された無機層、放射線によるパターン形成組成物、およびそれに対応する方法 | 2025年 6月 5日 | |
| 特許 7649752 | 有機金属フォトレジスト現像剤組成物及び処理方法 | 2025年 3月21日 | |
| 特許 7638944 | スズ十二量体、及び強いEUV吸収を有する放射線パターニング可能なコーティング | 2025年 3月 4日 | |
| 特許 7608526 | ポリアルキル汚染が少ないモノアルキルスズ化合物、それらの組成物及び方法 | 2025年 1月 6日 |
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7763181 7760573 7715703 7700151 7689218 7649752 7638944 7608526
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