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インプリア・コーポレイション
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（
2021年：第2561位 8件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第2447位 7件
（
2021年：第9350位 1件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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インプリア・コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7179816 | 有機スズオキシドヒドロキシドのパターン形成組成物、前駆体およびパターン形成 | 2022年11月29日 | |
| 特許 7179983 | パターン化された有機金属フォトレジスト及びパターニングの方法 | 2022年11月29日 | |
| 特許 7179082 | スズ十二量体、及び強いＥＵＶ吸収を有する放射線パターニング可能なコーティング | 2022年11月28日 | |
| 特許 7124137 | パターン形成された無機層、放射線によるパターン形成組成物、およびそれに対応する方法 | 2022年 8月23日 | |
| 特許 7095060 | 有機金属溶液に基づいた高解像度パターニング組成物 | 2022年 7月 4日 | |
| 特許 7065076 | 金属含有レジストからのエッジビード領域における金属残留物を低減する方法 | 2022年 5月11日 | |
| 特許 6993982 | 予めパターン形成されたリソグラフィ・テンプレート、該テンプレートを使用した放射線パターニングに基づくプロセス、及び該テンプレートを形成するためのプロセス | 2022年 2月 4日 |
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7179816 7179983 7179082 7124137 7095060 7065076 6993982
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