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インプリア・コーポレイション
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（
2023年：第1835位 12件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第2757位 6件
（
2023年：第2734位 6件）
（ランキング更新日：2025年1月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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インプリア・コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7585281 | パターン化された有機金属フォトレジスト及びパターニングの方法 | 2024年11月18日 | |
| 特許 7560506 | 金属含有レジストからのエッジビード領域における金属残留物を低減する方法 | 2024年10月 2日 | |
| 特許 7503605 | パターン形成された無機層、放射線によるパターン形成組成物、およびそれに対応する方法 | 2024年 6月20日 | |
| 特許 7487103 | 有機スズクラスター、有機スズクラスターの溶液、及び高解像度パターン形成への適用 | 2024年 5月20日 | |
| 特許 7483833 | 有機スズオキシドヒドロキシドのパターン形成組成物、前駆体およびパターン形成 | 2024年 5月15日 | |
| 特許 7482980 | 低い金属汚染及び／又は微粒子汚染を有するモノアルキルスズトリアルコキシド及び／又はモノアルキルスズトリアミド、並びに対応する方法 | 2024年 5月14日 |
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7585281 7560506 7503605 7487103 7483833 7482980
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