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インプリア・コーポレイション

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インプリア・コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2026-534021	フッ化物生成化合物を有する有機スズフォトレジスト組成物、フッ素化有機スズコーティング及びパターニング	2026年10月14日
特表 2026-530796	アセタール官能基を含むリガンドを有する有機スズ組成物、有機スズブレンドを有するパターニング組成物、及びポジ型パターニング	2026年 9月10日
特開 2026-129787	有機スズオキシドヒドロキシドのパターン形成組成物、前駆体およびパターン形成	2026年 8月12日
特表 2026-525170	フッ素置換基及び炭素間二重結合を有する組成物をパターニングするための、前駆体としての有機スズアルコキシド	2026年 7月29日
特開 2026-117085	基板上の無機放射線パターン形成組成物の安定化界面	2026年 7月14日
特開 2026-102781	有機金属の金属カルコゲナイドクラスター及びリソグラフィへの応用	2026年 6月23日
特開 2026-86409	有機スズクラスター、有機スズクラスターの溶液、及び高解像度パターン形成への適用	2026年 5月26日
特開 2026-71338	反応物の供給に好都合な配位子を持つ有機スズ組成物の製造方法	2026年 4月28日
特表 2026-511559	光パターニング可能オルガノメタリックレジストのためのガス放出下層	2026年 4月14日
特開 2026-63124	金属含有レジストからのエッジビード領域における金属残留物を低減する方法	2026年 4月10日
特開 2026-48952	ポリアルキル汚染が少ないモノアルキルスズ化合物、それらの組成物及び方法	2026年 3月17日
特開 2026-16470	有機金属溶液に基づいた高解像度パターニング組成物	2026年 2月 3日

12 件中 1-12 件を表示

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2026-534021 2026-530796 2026-129787 2026-525170 2026-117085 2026-102781 2026-86409 2026-71338 2026-511559 2026-63124 2026-48952 2026-16470

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