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インプリア・コーポレイション
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第2638位 8件
（
2021年：第2561位 8件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第2447位 7件
（
2021年：第9350位 1件）
（ランキング更新日：2025年3月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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インプリア・コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2022-145904 | パターン形成された無機層、放射線によるパターン形成組成物、およびそれに対応する方法 | 2022年10月 4日 | |
| 特表 2022-541818 | 有機金属の金属カルコゲナイドクラスター及びリソグラフィへの応用 | 2022年 9月27日 | |
| 特表 2022-541417 | 基板上の無機放射線パターン形成組成物の安定化界面 | 2022年 9月26日 | |
| 特開 2022-127587 | 低欠陥性を有する放射線パターニング可能な有機金属コーティング及び対応する方法 | 2022年 8月31日 | |
| 特開 2022-123115 | 有機金属溶液に基づいた高解像度パターニング組成物 | 2022年 8月23日 | |
| 特開 2022-105080 | 金属含有レジストからのエッジビード領域における金属残留物を低減する方法 | 2022年 7月12日 | |
| 特表 2022-526031 | 有機金属フォトレジスト現像剤組成物及び処理方法 | 2022年 5月20日 | |
| 特表 2022-502714 | パターン化された有機金属フォトレジスト及びパターニングの方法 | 2022年 1月11日 |
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2022-145904 2022-541818 2022-541417 2022-127587 2022-123115 2022-105080 2022-526031 2022-502714
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