特許ランキング - 出願人詳細情報 -

三井金属鉱業株式会社

※ ログインすれば出願人(三井金属鉱業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第350位　106件（2020年：第553位　58件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第356位　74件（2020年：第429位　59件）

（ランキング更新日：2026年2月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

三井金属鉱業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
再表 2021-132537	硫化物固体電解質及びその製造方法	2021年12月23日
再表 2020-166380	スパッタリングターゲット材	2021年12月16日
再表 2020-166655	活物質	2021年12月 9日
再表 2020-166658	活物質	2021年12月 9日
再表 2021-117869	硫化物固体電解質	2021年12月 9日
特開 2021-185119	ニオブ酸水溶液	2021年12月 9日
再表 2020-158593	金属粒子、それを用いた磁性体ペースト、圧粉磁心及びインダクタ、並びに金属粒子の製造方法	2021年12月 2日
再表 2020-158685	Ｓｎ粒子、それを用いた導電性組成物及びＳｎ粒子の製造方法	2021年12月 2日
再表 2020-235537	キャリア付金属箔並びにその使用方法及び製造方法	2021年12月 2日
再表 2021-107119	排ガス浄化用触媒組成物及び排ガス浄化用触媒	2021年12月 2日
再表 2021-107120	排ガス浄化用触媒	2021年12月 2日
再表 2020-241250	排気ガス浄化触媒構造体及びその製造方法	2021年11月25日
再表 2021-44687	排気ガス浄化用組成物及びその製造方法	2021年11月25日
再表 2021-100233	スパッタリングターゲット及びその製造方法	2021年11月25日
再表 2021-84838	隙間配置部材	2021年11月18日

109 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2021-132537 2020-166380 2020-166655 2020-166658 2021-117869 2021-185119 2020-158593 2020-158685 2020-235537 2021-107119 2021-107120 2020-241250 2021-44687 2021-100233 2021-84838

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。三井金属鉱業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数