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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第3076位 6件
(
2014年:第4165位 4件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第2211位 7件
(
2014年:第4015位 4件)
(ランキング更新日:2026年1月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5838067 | 塗布方法および塗布装置 | 2015年12月24日 | |
| 特許 5820218 | 光照射装置、基板処理装置および光照射装置の制御方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5758509 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5686647 | 基板保持装置、基板洗浄装置および基板処理装置 | 2015年 3月18日 | |
| 特許 5680731 | 基板処理装置および検査周辺露光システム | 2015年 3月 4日 | |
| 特許 5666361 | 基板処理装置 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5668120 | 現像装置 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5658083 | 温度変更システム | 2015年 1月21日 |
8 件中 1-8 件を表示
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5838067 5820218 5758509 5686647 5680731 5666361 5668120 5658083
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