※ ログインすれば出願人(HOYA株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2020年 出願公開件数ランキング 第260位 156件
(2019年:第231位 195件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第204位 144件
(2019年:第193位 139件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2020-203804 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2020年12月24日 | |
再表 2019-142689 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム | 2020年12月17日 | |
再表 2019-156022 | 内視鏡システム | 2020年12月17日 | |
再表 2019-159770 | 内視鏡システム | 2020年12月17日 | |
再表 2020-12216 | コンタクトレンズを格納する包装箱の陳列収納棚 | 2020年12月17日 | |
特表 2020-536608 | 内視鏡挿入チューブの製造方法および挿入チューブを備える内視鏡 | 2020年12月17日 | |
特表 2020-536612 | 内視鏡の挿入チューブの製造方法および挿入チューブを備える内視鏡 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-198961 | 内視鏡システムおよび内視鏡装置 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-202346 | 光源装置 | 2020年12月17日 | |
再表 2019-131506 | 導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 | 2020年12月10日 | |
再表 2019-167622 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 | 2020年12月 3日 | |
再表 2019-116947 | 電子内視鏡システム | 2020年11月26日 | |
特開 2020-188959 | 内視鏡システムおよび内視鏡装置 | 2020年11月26日 | |
特開 2020-190729 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 | 2020年11月26日 | |
特開 2020-185106 | プロセッサ、および内視鏡システム | 2020年11月19日 |
161 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2020-203804 2019-142689 2019-156022 2019-159770 2020-12216 2020-536608 2020-536612 2020-198961 2020-202346 2019-131506 2019-167622 2019-116947 2020-188959 2020-190729 2020-185106
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。HOYA株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
特許業務法人 藤本パートナーズ 株式会社ネットス 株式会社パトラ
大阪オフィス:大阪市中央区南船場1-15-14 堺筋稲畑ビル2F 5F 東京オフィス:東京都千代田区平河町1-1-8 麹町市原ビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
福岡県福岡市中央区天神2-3-10-719 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
新潟県新潟市東区新松崎3-22-15 ラフィネドミールⅡ-102 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟