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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第243位 171件
(
2016年:第202位 208件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第113位 286件
(
2016年:第93位 350件)
(ランキング更新日:2026年10月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2017-228340 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および研磨用ブラシ | 2017年12月28日 | |
| 再表 2016-147518 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-225627 | 光測定装置 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-225642 | 電子内視鏡装置用の接続構造 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-225648 | 電子内視鏡システム | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-225689 | 電子内視鏡装置用の実装構造 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-225725 | 内視鏡及び内視鏡管理システム | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-227663 | コンタクトレンズおよびその製造方法 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-227572 | 評価値算出方法、評価値算出プログラム及び評価値算出装置 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-227936 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、マスクブランク及びマスク、多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、並びにマスクブランクの製造方法 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-227824 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-227933 | 反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法、並びにマスクブランク及びマスクの製造方法 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-221351 | 電子内視鏡システム | 2017年12月21日 | |
| 特開 2017-223829 | レンズユニット | 2017年12月21日 | |
| 特開 2017-223890 | マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2017年12月21日 |
175 件中 1-15 件を表示
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2017-228340 2016-147518 2017-225627 2017-225642 2017-225648 2017-225689 2017-225725 2017-227663 2017-227572 2017-227936 2017-227824 2017-227933 2017-221351 2017-223829 2017-223890
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