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HOYA株式会社

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  2018年 出願公開件数ランキング    第204位 213件 下降2017年:第185位 291件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第136位 218件 下降2017年:第113位 286件)

(ランキング更新日:2021年7月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2018-201748 レンズ収納容器 2018年12月27日
特開 2018-205350 反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、マスクブランク、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法、レジスト除去装置、及びレジスト除去方法 2018年12月27日
特開 2018-205400 マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 2018年12月27日
特開 2018-205693 フォトマスク、及び、表示装置の製造方法 2018年12月27日
特開 2018-205769 マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法 2018年12月27日
再表 2017-142095 内視鏡用光源装置及び内視鏡システム 2018年12月20日
特開 2018-200743 磁気ディスク用ガラス基板の元となるガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び固定砥粒砥石 2018年12月20日
再表 2017-146021 内視鏡用変倍光学系、内視鏡及び内視鏡システム 2018年12月13日
特開 2018-196926 研磨又は研削処理用キャリアの製造方法、研磨又は研削処理用キャリア、及び基板の製造方法 2018年12月13日
特開 2018-197171 親水性反射防止膜付きレンズ及びその製造方法 2018年12月13日
特開 2018-192273 医療用デバイススタンド 2018年12月 6日
特開 2018-194569 防塵レンズ及びその製造方法 2018年12月 6日
再表 2017-204245 基板組立体及び電子内視鏡システム 2018年11月29日
再表 2018-97261 ガラス基板の研磨方法、ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、研磨液及び酸化セリウムの還元方法 2018年11月29日
特開 2018-189997 フォトマスク基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、フォトマスク基板の製造方法、表示装置の製造方法、フォトマスクのハンドリング方法、及びフォトマスク基板のハンドリング方法 2018年11月29日

215 件中 1-15 件を表示

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2018-201748 2018-205350 2018-205400 2018-205693 2018-205769 2017-142095 2018-200743 2017-146021 2018-196926 2018-197171 2018-192273 2018-194569 2017-204245 2018-97261 2018-189997

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