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ＨＯＹＡ株式会社

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　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第136位　218件（2017年：第113位　286件）

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ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2018-201748	レンズ収納容器	2018年12月27日
特開 2018-205350	反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、マスクブランク、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法、レジスト除去装置、及びレジスト除去方法	2018年12月27日
特開 2018-205400	マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法	2018年12月27日
特開 2018-205693	フォトマスク、及び、表示装置の製造方法	2018年12月27日
特開 2018-205769	マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法	2018年12月27日
再表 2017-142095	内視鏡用光源装置及び内視鏡システム	2018年12月20日
特開 2018-200743	磁気ディスク用ガラス基板の元となるガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び固定砥粒砥石	2018年12月20日
再表 2017-146021	内視鏡用変倍光学系、内視鏡及び内視鏡システム	2018年12月13日
特開 2018-196926	研磨又は研削処理用キャリアの製造方法、研磨又は研削処理用キャリア、及び基板の製造方法	2018年12月13日
特開 2018-197171	親水性反射防止膜付きレンズ及びその製造方法	2018年12月13日
特開 2018-192273	医療用デバイススタンド	2018年12月 6日
特開 2018-194569	防塵レンズ及びその製造方法	2018年12月 6日
再表 2017-204245	基板組立体及び電子内視鏡システム	2018年11月29日
再表 2018-97261	ガラス基板の研磨方法、ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、研磨液及び酸化セリウムの還元方法	2018年11月29日
特開 2018-189997	フォトマスク基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、フォトマスク基板の製造方法、表示装置の製造方法、フォトマスクのハンドリング方法、及びフォトマスク基板のハンドリング方法	2018年11月29日

215 件中 1-15 件を表示

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2018-201748 2018-205350 2018-205400 2018-205693 2018-205769 2017-142095 2018-200743 2017-146021 2018-196926 2018-197171 2018-192273 2018-194569 2017-204245 2018-97261 2018-189997

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