ＨＯＹＡ株式会社
※ ログインすれば出願人(ＨＯＹＡ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2015年 出願公開件数ランキング 第116位 393件
（
2014年：第100位 441件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第115位 257件
（2014年：第108位 377件）
（ランキング更新日：2022年1月11日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2013-161889 | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、および光学素子とその製造方法 | 2015年12月24日 | |
| 再表 2013-157410 | ＦＺＤ１０結合性ペプチド | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-226611 | 電子内視鏡システム及びこれに用いる頭部ジェスチャ検出型遠隔操作装置 | 2015年12月17日 | |
| 再表 2013-146990 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、透過型マスクブランク、反射型マスクブランク、透過型マスク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 | 2015年12月14日 | |
| 再表 2013-146991 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、透過型マスクブランク、反射型マスクブランク、透過型マスク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 | 2015年12月14日 | |
| 再表 2013-147149 | 磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2015年12月14日 | |
| 特開 2015-223221 | 画像強調処理システムおよび電子内視鏡システム | 2015年12月14日 | |
| 特開 2015-223249 | 内視鏡用プロセッサ | 2015年12月14日 | |
| 特開 2015-225261 | 集光光学系及び光源光学系 | 2015年12月14日 | |
| 特開 2015-225280 | 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスクの製造方法 | 2015年12月14日 | |
| 特開 2015-225393 | 画像強調処理システムおよび電子内視鏡システム | 2015年12月14日 | |
| 特開 2015-225687 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2015年12月14日 | |
| 再表 2013-145460 | ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法およびＨＤＤ用ガラス基板 | 2015年12月10日 | |
| 再表 2013-145503 | ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法 | 2015年12月10日 | |
| 再表 2013-146089 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、磁気ディスクドライブ装置 | 2015年12月10日 |
393 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2013-161889 2013-157410 2015-226611 2013-146990 2013-146991 2013-147149 2015-223221 2015-223249 2015-225261 2015-225280 2015-225393 2015-225687 2013-145460 2013-145503 2013-146089
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＨＯＹＡ株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
1月27日(木) -
1月27日(木) -
1月27日(木) - 神奈川 川崎市
1月28日(金) -
1月28日(金) - 東京 千代田区
1月28日(金) -
1月28日(金) -
1月29日(土) -
1月31日(月) -
2月2日(水) -
2月4日(金) - 東京 豊島区
2月4日(金) -
【オンライン】特許化・事業化事例が続々！「ウィズ・コロナ」でも、スジの良い新規事業・研究テーマを生み出し続けている！「企業内発明塾」サービス説明会 ～説明内容と資料を大幅にアップデートしました！～
1月31日(月) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
東京都江戸川区西葛西3-13-2-501 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒550-0005 大阪市西区西本町１－８－１１ カクタスビル６Ｆ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
埼玉県戸田市上戸田３－１３－１３ ガレージプラザ戸田公園Ａ－２ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
