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三菱レイヨン株式会社

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 ■ 2026年 特許取得件数ランキング    第37位 470件 (上昇2025年:第53位 450件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7913248 シリカ粒子の製造方法及びシリカゾルの製造方法 2026年 9月 1日
特許 7913437 多孔質支持体-ゼオライト膜複合体における有機化合物の透過量の評価方法 2026年 9月 1日
特許 7913577 シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 2026年 9月 1日
特許 7913513 化合物、及びその製造方法、重合性組成物、重合物、ホログラム記録媒体、光学材料、並びに光学部品 2026年 9月 1日
特許 7913844 接着シート及びこれを用いた硬化物、積層体並びに自動車用外装材 2026年 9月 1日
特許 7912729 GaN結晶およびGaN基板 2026年 8月31日
特許 7911325 剥離性粘着剤組成物、剥離性粘着剤および剥離性粘着シート 2026年 8月26日
特許 7910576 硬化性組成物、硬化物、積層体およびこれらの製造方法 2026年 8月25日
特許 7910372 過酸化水素製造用光触媒及びそれを用いた過酸化水素の製造方法 2026年 8月25日
特許 7910410 強度向上添加剤の製造方法 2026年 8月25日
特許 7910468 感光性着色組成物、硬化物、有機電界発光素子及び画像表示装置 2026年 8月25日
特許 7910620 エステル化合物含有組成物及びその製造方法、重合性組成物、(メタ)アクリル系重合体及びその製造方法 2026年 8月25日
特許 7910901 シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 2026年 8月25日
特許 7910641 テレフタル酸ジメチル組成物、及びポリエステル 2026年 8月25日
特許 7907765 仕切り部材及び組電池 2026年 8月19日

484 件中 91-105 件を表示

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7913248 7913437 7913577 7913513 7913844 7912729 7911325 7910576 7910372 7910410 7910468 7910620 7910901 7910641 7907765

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